干渉リソグラフィーを用いた単分散ナノ粒子生産用サブμm流路デバイスの実現

使用干涉光刻技术实现单分散纳米粒子生产的亚微米通道装置

基本信息

  • 批准号:
    22KJ1295
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 财政年份:
    2023
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2023-03-08 至 2025-03-31
  • 项目状态:
    未结题

项目摘要

项目成果

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  • 发表时间:
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