干渉リソグラフィーを用いた単分散ナノ粒子生産用サブμm流路デバイスの実現
干渉リソグラフィーを用いた単分散ナノ粒子生産用サブμm流路デバイスの実現
使用干涉光刻技术实现单分散纳米粒子生产的亚微米通道装置
批准号：
22KJ1295
负责人：
増井 周造
金额：
$2.83万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2023
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2023-03-08 至 2025-03-31
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複数の周期性を有する次世代回折素子の高精度計測
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批准号：21K20395
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项目类别：Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
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资助金额：$2.0万
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财政年份：2021
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负责人：増井 周造
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依托单位：
局在光場制御及びナノ粒子相互作用を利用した次世代ナノ機能構造一括創製法の開発
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批准号：18J21820
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项目类别：Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额：$1.79万
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财政年份：2018
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负责人：増井 周造
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依托单位：