局在光場制御及びナノ粒子相互作用を利用した次世代ナノ機能構造一括創製法の開発
局在光場制御及びナノ粒子相互作用を利用した次世代ナノ機能構造一括創製法の開発
批准号:
18J21820
负责人:
増井 周造
金额:
$1.79万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2018
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2018-04-25 至 2021-03-31
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英文摘要
1.二重周期回折格子の回折特性計測さらに,構築した理論モデル実証のために,多重露光干渉リソグラフィーで造形した二重周期回折格子を自身で開発した回折特性計測装置で評価した.二重周期回折格子では,重ね合わせた2つの周期に由来する回折光がかけ合わさった回折光分布を生じる.さらに,複数の回折光スポットでは,回折効率は106倍以上異なるなど,通常の単一周期回折格子の計測と異なる計測装置の特性が要求されることがわかった.そこで,開発した回折特性計測装置では,高ダイナミックレンジのディタクタを用いて,2軸自動回転ステージにより入射角と計測角を独立に0.1度以下の精度で制御した.そして,得られた回折特性は,構築したスカラー回折理論モデルから計算される回折特性との一致を確認した.2.サブ波長格子偏光ビームスプリッタの理論モデル構築また,2020年4月からの国内での緊急事態宣言発令を受け,実験が思うように進まない中でも,2年目までに得られていた,サブ波長格子構造の特異的な低反射ピークを根気強く解析,考察することで,そのメカニズムを明らかにした.そして,従来から知られていた高反射ピークを示す導波モード共振と組み合わせたサブ波長格子からなる偏光ビームスプリッタの理論的なモデルを構築するまでに至った.これらの結果は,米国光学会(Optical Society of America, OSA)の出版するApplied Optics誌へ投稿し,Editor’s Pick(各号10%程度)に選出されるなど,国外でもその研究成果が高く評価されている.
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Fabrication of dual-periodic nanostructures with multi-exposure interference lithography using Lloyd’s mirror
使用劳埃德镜多次曝光干涉光刻制造双周期纳米结构
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S. Masui, M. Michihata, K. Takamasu, S. Takahashi]
通讯作者:
S. Takahashi
階層型微細機能構造創製に関する研究(第2報)インプロセス干渉縞計測による多重干渉リソグラフィーの露光制御
分层精细功能结构创建的研究(第二次报告)使用过程中干涉条纹测量的多重干涉光刻的曝光控制
DOI:
--
发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Masui Shuzo, Torii Yuki, Michihata Masaki, Takamasu Kiyoshi, Takahashi Satoru, 増井周造,門屋祥太郎,道畑正岐,高橋哲, 増井周造,道畑正岐,高増潔,高橋哲]
通讯作者:
増井周造,道畑正岐,高増潔,高橋哲
階層型微細機能構造創製に関する研究(第2報) インプロセス干渉縞計測による多重干渉リソグラフィーの露光制御
分层精细功能结构创建的研究(第二次报告)使用过程中干涉条纹测量的多重干涉光刻的曝光控制
DOI:
--
发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Takeru FUGONO, Shuzo MASUI, Shotaro KADOYA, Masaki MICHIHATA, and Satoru TAKAHASHI, 増井周造,道畑正岐,高増潔,高橋哲]
通讯作者:
増井周造,道畑正岐,高増潔,高橋哲
Measuring Optical Properties of Advanced Nano/Micro-Periodic Structures Fabricated by Multi-Exposure Interference Lithography
测量多次曝光干涉光刻制造的先进纳米/微周期结构的光学特性
DOI:
--
发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Shuzo MASUI, Masaki MICHIHATA, Kiyoshi TAKAMASU, and Satoru TAKAHASHI]
通讯作者:
and Satoru TAKAHASHI
Fabrication of Functional Subwavelength Structured Surface Using Evanescent Wave Interference Lithography
使用倏逝波干涉光刻技术制造功能性亚波长结构化表面
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Shuzo Masui, Masaki Michihata, Kiyoshi Takamasu, Toshihiko Shibanuma, Hironao Tanaka, Satoru Takahashi]
通讯作者:
Satoru Takahashi
共 11 条
干渉リソグラフィーを用いた単分散ナノ粒子生産用サブμm流路デバイスの実現
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批准号:22KJ1295
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$2.83万
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财政年份:2023
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负责人:増井 周造
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依托单位:
複数の周期性を有する次世代回折素子の高精度計測
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批准号:21K20395
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项目类别:Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
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资助金额:$2.0万
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财政年份:2021
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负责人:増井 周造
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依托单位:
海外基金