二段階光反応を利用したレジン修復歯面の強化エナメル改質と二次う蝕制圧

利用两步光反应对树脂修复的牙齿表面进行强化釉质改性和抑制继发龋

基本信息

项目摘要

う蝕(虫歯)治療の最大の課題は、レジン等の修復物との隙間に侵入したう蝕原因菌による二次う蝕(再発)である。本研究の目的は、研究代表者らが開発してきた2種類の光技術((1)レジンの光重合を利用した膜転写法、(2)過飽和液中レーザー照射法)を利用し、レジン修復歯面をフッ素含有アパタイトで被覆・高機能化するための技術を開発することである。当該年度(2022年度)は、上記(1)および(2)の技術開発をそれぞれに進めた。(1)では、研究代表者らの既報(Hibino et al., Mater Sci Eng C, 2020)をベースとし、リン酸カルシウム過飽和溶液(原料膜の合成液)にフッ化ナトリウムを添加することで、レジン圧接用(膜転写用)の透明高分子フィルム上にフッ素含有アパタイト原料膜を合成した。(2)では、研究代表者らの既報(Oyane et al., Inter J Mol Sci, 2022)をベースとし、硬化レジンへの前処理として表面にインドシアニングリーン(光吸収剤となる色素薬剤)を塗布した後、フッ化ナトリウムを添加したリン酸カルシウム過飽和溶液中で歯科用半導体レーザー(波長:808 nm)を照射した。その結果、一定の前処理・照射条件下において、照射面の一部に、フッ素含有アパタイトを成膜できることが分かった。レジン修復面の全面成膜・高機能化に向けて、足掛かりとなる予備的な結果を得た。
The biggest problem in the treatment of dental caries is the secondary erosion (recurrence) caused by the invasion of erosion-causing bacteria into the space between restorations such as lyjins. The purpose of this study is to develop two types of optical technologies ((1) photo-deposition method,(2) photo-irradiation method in supersaturated solution), and to develop technologies for repairing surfaces containing photo-coating and high functionalization. In 2022, the Company recorded the technical development progress of (1) and (2) above. (1)(Hibino et al., Mater Sci Eng C, 2020), a supersaturated solution of hydrochloric acid (synthesis solution of raw material film), a transparent polymer for pressure connection (film writing), and a synthesis solution of raw material film containing hydrochloric acid. (2) Oyane et al., Inter J Mol Sci, 2022) is applied to the surface of the semiconductor film before treatment and hardening, and then the semiconductor film for dental use (wavelength: 808 nm) is irradiated in a supersaturated solution. Results: Under certain pretreatment and irradiation conditions, a part of the irradiation surface contains the pigment, and the film is formed. Full film formation on the repair surface and high functionality are achieved.

项目成果

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バイオミネラリゼーションの光制御による高機能化歯面の構築
通过生物矿化的光学控制构建高功能牙齿表面
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Masahiro Kuramochi;Chiaki takanashi;Akari Yamauchi;Motomichi Doi;Kazuhiro Mio;Sakae tsuda;Yuji C. Sasaki;高木駿;中村真菜美;大矢根 綾子
  • 通讯作者:
    大矢根 綾子
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