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Development of high-sensitive silicon image sensor in near-infrared region by plasmonic transmission with large angle

Development of high-sensitive silicon image sensor in near-infrared region by plasmonic transmission with large angle
近红外区大角度等离子体传输高灵敏硅图像传感器的研制
批准号:
22K18984
负责人:
小野 篤史
金额:
$4.16万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份:
2022
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2022-06-30 至 2024-03-31

项目摘要

项目成果

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本研究は,自動運転技術や通信技術,生体計測技術など,昨今重要視されている近赤外イメージセンサの分野において,シリコンイメージセンサの近赤外感度を大幅に向上する技術革新をもたらすことに挑戦する研究である.プラズモニクスと呼ばれる光学分野とイメージセンサの電子工学分野との融合を図ることにより課題解決に取り組む.特に自動運転技術に用いられる光源波長940nmにおける吸収効率はわずか5%であり,シリコンイメージセンサの近赤外量子効率は極めて低い.本研究期間内の達成目標として,波長940nmにおけるシリコン吸収効率を可視光域と同等の50%以上となるよう劇的な感度向上を目指す.本研究目的達成されれば,低照度化,低消費電力化,高解像度化,高速化など現行に対して革新的技術をもたらすこととなり,車載センサ市場をはじめとしたセンサ分野への波及効果は計り知れない.裏面照射型イメージセンサを考慮して解析し,プラズモニック回折によるシリコン層で光を閉じ込めるような機構を新たに考案した.これにより波長940nmにおいて吸収効率53.3%が得られることを解析により明らかにした.
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专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Near-Infrared Sensitivity Enhancement of Silicon Image Sensor by Photon Confinement with Plasmonic Diffraction
通过等离子体衍射光子限制增强硅图像传感器的近红外灵敏度
DOI: --
发表时间: 2022
期刊:
影响因子: --
作者: [Takahito Yoshinaga, Kazuma Hashimoto, Nobukazu Teranishi, and Atsushi Ono]
通讯作者: and Atsushi Ono
Photon Confinement by Plasmonic Diffraction for Near-Infrared Sensitivity Improvement of Silicon Image Sensor
通过等离子体衍射限制光子以提高硅图像传感器的近红外灵敏度
DOI: --
发表时间: 2022
期刊:
影响因子: --
作者: [Takahito Yoshinaga, Kazuma Hashimoto, Nobukazu Teranishi, and Atsushi OnoTakahito Yoshinaga, Kazuma Hashimoto, Nobukazu Teranishi, and Atsushi Ono]
通讯作者: and Atsushi Ono
DOI: 10.1364/oe.472401
发表时间: 2022-09-26
期刊: OPTICS EXPRESS
影响因子: 3.8
作者: [Yoshinaga,Takahito, Hashimoto,Kazuma, Ono,Atsushi]
通讯作者: Ono,Atsushi
プラズモニック回折格子を用いたシリコンイメージセンサの近赤外吸収効率の向上
使用等离子体衍射光栅提高硅图像传感器的近红外吸收效率
DOI: --
发表时间: 2022
期刊:
影响因子: --
作者: [Kawabata Rei, Araki Teppei, Akiyama Mihoko, Uemura Takafumi, Wu Tianxu, Koga Hirotaka, Okabe Yusuke, Noda Yuki, Tsuruta Shuichi, Izumi Shintaro, Nogi Masaya, Suganuma Katsuaki, Sekitani Tsuyoshi, 吉永崇仁,橋本和磨,寺西信一,小野篤史]
通讯作者: 吉永崇仁,橋本和磨,寺西信一,小野篤史
偏光・波面制御システムによる超微細金属ホログラフィックパターニング技術の創成
  • 批准号:
    23K23255
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 资助金额:
    $2.58万
  • 财政年份:
    2024
  • 负责人:
    小野 篤史
  • 依托单位:
偏光・波面制御システムによる超微細金属ホログラフィックパターニング技術の創成
  • 批准号:
    22H01987
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 资助金额:
    $11.23万
  • 财政年份:
    2022
  • 负责人:
    小野 篤史
  • 依托单位:
海外基金