Risswachstum in intermetallischen TiAl unter besonderer Berücksichtigung der Rissausbreitung in Tiefenrichtung

Es Sollen Untersuhugen and ErmüDeten Proben Aus金属间化合物钛金属间化合物DurchgefüHRT。我们用飞秒激光诱导击穿光谱(FS-LIBS)对激光诱导击穿光谱(FS-LIBS)进行了研究。他说：“我不知道你的名字是什么意思，但我不知道。他说：“这是一件很重要的事情，我不知道该怎么做，但我不能这么做。”我是Antrag Sollen die Schwell enwerte für RissInitiierung und-osbreitung in AbhänGigkeit vom Gefüge bstimt in abhängikeit vom Gefüge bstimt.铁芬里洞的大足是最好的地方。他说：“我不知道怎么回事，我不知道怎么做。”大足唯一的光谱化学技术是一种先进的激光优化技术。在最后的帮助下，跟踪和死亡的物质和死亡在建设中。在这一点上，我们不会在光谱分析和光谱分析中找到正确的答案。这是一种特殊的化学方法，可以用来烧蚀等离子体发射的物质。

Es sollen Untersuchungen an ermüdeten Proben aus intermetallischem Titanaluminid durchgeführt werden. Dabei geht es um ein Verständnis der verschiedenen Stadien der Schädigungsentwicklung in TiAl und darum, wie die Femtosekunden Laser-induced Breakdown Spectroscopy (fs-LIBS) weiterentwickelt werden muss, um erfolgreich zur Rissinitiierung, -entdeckung und -rekonstruktion eingesetzt zu werden. Die Initiierung und das Wachstum von Mikrorissen hängen sehr stark vom Gefüge des Titanaluminids ab, das charakteristische Lamellenkolonien enthält. Bisher wurde festgestellt, dass es charakteristische Schwellenwerte für die an der Oberfläche beobachtbare Schädigung gibt, und dass die dabei entstehenden Risse im Prinzip mittels fs-LIBS entdeckt werden können. Im vorliegenden Antrag sollen die Schwellenwerte für Rissinitiierung und -ausbreitung in intermetallischem TiAl in Abhängigkeit vom Gefüge bestimmt werden. Dazu muss auch die Rissausbreitung in Tiefenrichtung berücksichtigt werden. Die geringe Breite dieser Risse stellt hohe Anforderungen an das Auflösungs-vermögen bei der Rissdetektion. Dazu soll die spektrochemische Sensitivität des Rasterabbildungsverfahrens erhöht, sowie der Loch-Überlapp und Schichtabstand beim Materialabtrag durch den fs-Laser optimiert werden. Der Einsatz von Tracersubstanzen und die Rissöffnung unter Last helfen zusätzlich bei der Rissrekonstruktion. Die in der ersten Antragsperiode erarbeitete Vorreiterrolle bei der Entwicklung dieses in-situ Rasterabbildungsverfahrens hoher räumlicher Auflösung und spektrochemischer Sensitivität wird damit weiter ausgebaut werden. Zudem versprechen die Ansätze zur Erhöhung der spektrochemischen Empfindlichkeit die Primärdynamik bei der fs-Ablation mit anschließender Plasmaemission besser zu verstehen.