Development of high speed measurement technique for low temperature field by utilization of phosphor thermometry in photo annealing process
Development of high speed measurement technique for low temperature field by utilization of phosphor thermometry in photo annealing process
光退火过程中荧光粉测温低温场高速测量技术的发展
批准号：
26420717
负责人：
Shinoda Kentaro
金额：
$3.24万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2014-04-01 至 2017-03-31
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塗布光照射法における酸化スズ膜結晶化過程のナノ秒温度計測
镀膜光照射法氧化锡薄膜结晶过程纳秒测温
镀膜光照射法氧化锡薄膜结晶过程纳秒测温
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[勝木司, 湯本敦史, 土屋哲男, 明渡純, 篠田健太郎]
通讯作者：
篠田健太郎
Dr. Kentaro Shinoda's Homepage
筱田健太郎博士的主页
筱田健太郎博士的主页
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
In situ temperature measurement of crystallization process of tin oxide films in ELAMOD process at nano second time scale
纳秒级ELAMOD工艺中氧化锡薄膜结晶过程的原位温度测量
纳秒级ELAMOD工艺中氧化锡薄膜结晶过程的原位温度测量
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Tsukasa Katsuki, Tetsuo Tsuchiya, Jun Akedo, Atsushi Yumoto, Kentaro Shinoda]
通讯作者：
Kentaro Shinoda
塗布光照射法における酸化スズ膜結晶化過程のその場計測
镀膜光照射法原位测量氧化锡薄膜结晶过程
镀膜光照射法原位测量氧化锡薄膜结晶过程
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[勝木司, 湯本敦史, 土屋哲男, 明渡純, 篠田健太郎]
通讯作者：
篠田健太郎