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Fabrication of semipolar {20-2-1} plane GaN substrate grown from the sidewall of patterned sapphire substrate

Fabrication of semipolar {20-2-1} plane GaN substrate grown from the sidewall of patterned sapphire substrate
从图案化蓝宝石衬底侧壁生长的半极性{20-2-1}面GaN衬底的制造
批准号:
25289088
负责人:
Tadatomo Kazuyuki
金额:
$11.07万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2013
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2013-04-01 至 2016-03-31

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通讯作者: 山根啓輔
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