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Studies of ultrathin high dielectrics materials for CMOS device applicaitons
CMOS器件应用超薄高介电材料的研究
基本信息
- 批准号：252919-2002
- 负责人：
- 金额：$ 3.02万
- 依托单位：
- 依托单位国家：加拿大
- 项目类别：Postdoctoral Fellowships
- 财政年份：2003
- 资助国家：加拿大
- 起止时间：2003-01-01 至 2004-12-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
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项目成果
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Piao, Hong其他文献
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CMOS器件应用超薄高介电材料的研究
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