Precursor and Reactivity Design for Atomic Layer Deposition (ALD) of Main Group Elements

主族元素原子层沉积 (ALD) 的前驱体和反应性设计

基本信息

  • 批准号：
    518753-2018
  • 负责人：
    AlHareri, Majeda
  • 金额：
    $ 1.53万
  • 依托单位：
    McMaster University
  • 依托单位国家：
    加拿大
  • 项目类别：
    Postgraduate Scholarships - Doctoral
  • 财政年份：
    2018
  • 资助国家：
    加拿大
  • 起止时间：
    2018-01-01 至 2019-12-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

Inorganic Chemistry, Main Group Chemistry, Atomic Layer Deposition, Materials, Thin Films
采购产品无机化学，主基团化学，原子层沉积，材料，薄膜

项目成果

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主族元素原子层沉积 (ALD) 的前驱体和反应性设计
  • 批准号：
    518753-2018
  • 财政年份：
    2020
  • 资助金额：
    $ 1.53万
  • 项目类别：
    Postgraduate Scholarships - Doctoral
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  • 财政年份：
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