高分子光敏材料基础研究
批准号:
59633110
项目类别:
重点项目
资助金额:
90.0 万元
负责人:
曹维孝
依托单位:
学科分类:
E0309.光电磁功能有机高分子材料
结题年份:
2000
批准年份:
1996
项目状态:
已结题
项目参与者:
杨永源、刘振义、王培青、何慧珠、林天舒、章斐、卢英先、卢建军、张方
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基于重氮基高分子的核壳结构、胶体晶体为模板的孔材料
- 批准号:20274002
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:24.0万元
- 批准年份:2002
- 负责人:曹维孝
- 依托单位:
纳米结构功能膜制备及其成像性质研究
- 批准号:50173002
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:25.0万元
- 批准年份:2001
- 负责人:曹维孝
- 依托单位:
感光性聚离子复合物及其与表面活性剂相互作用
- 批准号:29874001
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:11.0万元
- 批准年份:1998
- 负责人:曹维孝
- 依托单位:
新型水溶性负性胶印用光刻蚀材料
- 批准号:59373126
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:7.0万元
- 批准年份:1993
- 负责人:曹维孝
- 依托单位:
高分子感光材料合成及聚合物光接枝改性
- 批准号:28770227
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:3.0万元
- 批准年份:1987
- 负责人:曹维孝
- 依托单位:
国内基金
海外基金
