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新型水溶性负性胶印用光刻蚀材料
批准号：
59373126
项目类别：
面上项目
资助金额：
7.0 万元
负责人：
曹维孝
依托单位：
北京大学
学科分类：
E0309.光电磁功能有机高分子材料
结题年份：
1996
批准年份：
1993
项目状态：
已结题
项目参与者：
王仁祥、刘振义、仲秉元、郭凤枝、刘振国、王纯
关键词：
水溶性负性光刻蚀材料
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基于重氮基高分子的核壳结构、胶体晶体为模板的孔材料
  • 批准号：
    20274002
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    24.0万元
  • 批准年份：
    2002
  • 负责人：
    曹维孝
  • 依托单位：
    北京大学
纳米结构功能膜制备及其成像性质研究
  • 批准号：
    50173002
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    25.0万元
  • 批准年份：
    2001
  • 负责人：
    曹维孝
  • 依托单位：
    北京大学
感光性聚离子复合物及其与表面活性剂相互作用
  • 批准号：
    29874001
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    11.0万元
  • 批准年份：
    1998
  • 负责人：
    曹维孝
  • 依托单位：
    北京大学
高分子光敏材料基础研究
  • 批准号：
    59633110
  • 项目类别：
    重点项目
  • 资助金额：
    90.0万元
  • 批准年份：
    1996
  • 负责人：
    曹维孝
  • 依托单位：
    北京大学
高分子感光材料合成及聚合物光接枝改性
  • 批准号：
    28770227
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    3.0万元
  • 批准年份：
    1987
  • 负责人：
    曹维孝
  • 依托单位：
    北京大学
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海外基金