新型水溶性负性胶印用光刻蚀材料
批准号:
59373126
项目类别:
面上项目
资助金额:
7.0 万元
负责人:
曹维孝
依托单位:
学科分类:
光电磁功能有机高分子材料
结题年份:
1996
批准年份:
1993
项目状态:
已结题
项目参与者:
王仁祥、刘振义、仲秉元、郭凤枝、刘振国、王纯
关键词:
基于重氮基高分子的核壳结构、胶体晶体为模板的孔材料
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批准号:20274002
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项目类别:面上项目
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资助金额:24.0万元
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批准年份:2002
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负责人:曹维孝
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依托单位:
纳米结构功能膜制备及其成像性质研究
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批准号:50173002
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项目类别:面上项目
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资助金额:25.0万元
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批准年份:2001
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负责人:曹维孝
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依托单位:
感光性聚离子复合物及其与表面活性剂相互作用
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批准号:29874001
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项目类别:面上项目
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资助金额:11.0万元
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批准年份:1998
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负责人:曹维孝
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依托单位:
高分子光敏材料基础研究
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批准号:59633110
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项目类别:重点项目
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资助金额:90.0万元
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批准年份:1996
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负责人:曹维孝
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依托单位:
高分子感光材料合成及聚合物光接枝改性
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批准号:28770227
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项目类别:面上项目
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资助金额:3.0万元
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批准年份:1987
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负责人:曹维孝
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依托单位:
国内基金
海外基金