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RF等离子体增强脉冲激光沉积o-BN薄膜生长机理研究
结题报告
批准号：
10647140
项目类别：
专项基金项目
资助金额：
2.0 万元
负责人：
李卫青
依托单位：
学科分类：
A25.基础物理
结题年份：
2007
批准年份：
2006
项目状态：
已结题
项目参与者：
--
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中文摘要
由于氮化硼（BN）薄膜具有高硬度、高热导率、好的化学稳定性和抗离子轰击能力、低负电子亲和势（4.5ev）、良好的电子发射特性等许多优良特性，已成为人们研究和应用的热点。正交晶结构的o-BN（又叫E-BN）,是一种新的BN的超硬结构，带隙宽度为5.5eV，又是一种宽带隙材料，因此象c-BN和w-BN一样，它具有广泛的应用前景。本项目的主要研究内容是依据前期工作的试验数据对o-BN薄膜的生长机理进行较
英文摘要
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DOI：--
发表时间：--
期刊：
影响因子：--
作者：李卫青
通讯作者：李卫青
DOI：--
发表时间：--
期刊：
影响因子：--
作者：李卫青
通讯作者：李卫青
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