AFM纳米“蘸墨笔”－电化学还原法－光刻技术联用纳米构筑和电学测试新方法

纳电子学作为微电子学发展的下一代，在纳米科技中具有十分重要的地位。加工技术则是纳电子器件研究的关键内容。本项目针对电学性质测量与纳电子器件研究中的电接触、引线等基本问题，拟建立集传统光刻技术、AFM"蘸墨笔"纳米加工技术和电化学方法三者优势的联用方法，利用光刻技术在表面上构建适合引至宏观测量仪器的电极引线，同时也作为用AFM"蘸墨笔"在绝缘的基底表面进行电化学还原金属离子型"墨"所需的侧向电极，从而解决基底的绝缘性和电化学反应所需的导电性的矛盾。基于这一新思路，进一步利用可精确控制位置的"蘸墨笔"纳米加工法和电化学技术在纳米尺度上构建连接线和器件所需要的三个电极，并利用"蘸墨笔"纳米加工法构筑纳米结构，从而达到将导线引出的目的，可对它们的电学性质的测试，以探索纳米结构的新现象和新效应、揭示其规律性, 为纳米结构的电学性质测量和纳电子器件的构筑开辟新的途径。