SiCN薄膜与电极间的高温接触特性研究
批准号：
60606004
项目类别：
青年科学基金项目
资助金额：
25.0 万元
负责人：
程文娟
依托单位：
学科分类：
半导体材料
结题年份：
2009
批准年份：
2006
项目状态：
已结题
项目参与者：
石旺舟、林芳婷、卢相甫、叶雁萍、李娜、杨贵源
项目摘要
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项目成果
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中文摘要
要实现SiCN薄膜在高温MEMS器件中的应用，解决它与电极之间的高温欧姆接触是关键问题之一。本项目将以过渡金属（Ni、Ti、Mo、Pt、Ta）及它们的碳化物、硅化物及氮化物构成的多层材料体系（主要考虑Ni/WSi/Ti/Pt）作为电极，通过控制电极与SiCN界面上的固相反应和析出过程，在n型SiCN薄膜上获得低阻的高温欧姆接触性能，同时对Ni/WSi/Ti与SiCN薄膜之间欧姆接触的热稳定性进行研究。具体用原子力显微镜(AFM )、场发射扫描电镜（FESEM）和透射电子显微镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS )、俄歇电子能谱（AES）和X射线衍射（XRD）研究SiCN薄膜表面预处理及合金化过程中的具体工艺对接触界面成分、结构的影响，以获得最佳的欧姆接触性能。
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Ti/WSi/Ni ohmic contact to n-type SiCN
Ti/WSi/Ni 与 n 型 SiCN 欧姆接触
Ti/WSi/Ni 与 n 型 SiCN 欧姆接触
DOI：
10.1088/1674-4926/31/4/043003
发表时间：
2010
期刊：
Journal of Semiconductors
影响因子：
5.1
作者：
[程文娟]
通讯作者：
程文娟
DOI：
--
发表时间：
--
期刊：
人工晶体学报
影响因子：
--
作者：
[程文娟]
通讯作者：
程文娟
Low temperature synthesis of SiCN nanostructures
SiCN纳米结构的低温合成
SiCN纳米结构的低温合成
DOI：
10.1007/s11431-009-0008-5
发表时间：
2009-01
期刊：
Science in China Series E-Technological Sciences
影响因子：
--
作者：
[Cheng WenJuan, Ma XueMing]
通讯作者：
Ma XueMing
DOI：
--
发表时间：
--
期刊：
Spectroscopy and Spectral Analysis
影响因子：
0.7
作者：
[Lin Fang-Ting, Li Na, Shi Wang-Zhou, Ma Xue-Ming]
通讯作者：
Ma Xue-Ming
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