要实现SiCN薄膜在高温MEMS器件中的应用，解决它与电极之间的高温欧姆接触是关键问题之一。本项目将以过渡金属（Ni、Ti、Mo、Pt、Ta）及它们的碳化物、硅化物及氮化物构成的多层材料体系（主要考虑Ni/WSi/Ti/Pt）作为电极，通过控制电极与SiCN界面上的固相反应和析出过程，在n型SiCN薄膜上获得低阻的高温欧姆接触性能，同时对Ni/WSi/Ti与SiCN薄膜之间欧姆接触的热稳定性进行研究。具体用原子力显微镜(AFM )、场发射扫描电镜（FESEM）和透射电子显微镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS )、俄歇电子能谱（AES）和X射线衍射（XRD）研究SiCN薄膜表面预处理及合金化过程中的具体工艺对接触界面成分、结构的影响，以获得最佳的欧姆接触性能。