本项目针对传统碳化硅反射镜涂层材料制备效率低、加工难度大的应用现状，开展新型Si/SiC光学涂层的化学机械抛光机理及关键技术研究，旨在揭示硬脆、两相结构的Si/SiC光学涂层在化学机械抛光中的材料均匀去除机理、表面创成机理、表面/亚表面损伤形成与转化过程，并寻求Si/SiC光学涂层的高效、超光滑抛光方法以及表面/亚表面损伤的检测和定量描述。这一工作将极大的降低碳化硅反射镜涂层的制造成本，并显著缩短碳化硅反射镜的加工周期，从而为碳化硅反射镜的大规模应用奠定基础。此外，由于本项目的研究对象是Si/SiC两相结构的硬脆光学涂层，因此其研究方法对硬脆、多相复合材料的超精密研抛具有重要的借鉴意义。