光学非球面的磁流体超精密抛光工艺研究

批准号:
50175062
项目类别:
面上项目
资助金额:
19.0 万元
负责人:
冯之敬
依托单位:
学科分类:
E0509.加工制造
结题年份:
2004
批准年份:
2001
项目状态:
已结题
项目参与者:
赵广木、张云、吴鸿钟、郭震宇、辛科
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中文摘要
计算机控制磁流体抛光技术既有很好的工业应用前景,又有很高的学术研究意义。本项目深入研究进行高精度光学零件高效加工的磁流体抛光工艺基础性理论、规律和方法,并研究磁流体抛光专用实验设备。该项目的成功,对促进我国光学制造技术的发展具有里程碑的意义。
英文摘要
专著列表
科研奖励列表
会议论文列表
专利列表
共形光学元件内凹面的磁流变抛光技术研究
- 批准号:50675116
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:21.0万元
- 批准年份:2006
- 负责人:冯之敬
- 依托单位:
轴承滚道超精密砂带研抛的理论方法与技术基础
- 批准号:59375240
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:5.0万元
- 批准年份:1993
- 负责人:冯之敬
- 依托单位:
国内基金
海外基金
