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Ti-Ta高温记忆合金ω相析出行为与马氏体相变稳定性机理研究
结题报告
批准号:
51071059
项目类别:
面上项目
资助金额:
40.0 万元
负责人:
蔡伟
依托单位:
学科分类:
E0110.金属生物与仿生材料
结题年份:
2013
批准年份:
2010
项目状态:
已结题
项目参与者:
程倩、冯雪、王志江、郑晓航、王小艳、张立建
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中文摘要
Ti-Ta合金加工性能远优于已发现的其他高温记忆合金,更具有实用价值和发展潜力。而Ti-Ta合金在热循环和高温保温时ω相析出导致相变温度不稳定,是该合金进入实际应用亟待解决的关键问题。为此,本项目拟系统研究Ti-Ta合金时效过程中ω相形核和长大规律及其影响因素,阐明ω相析出动力学规律与机制,建立ω相析出动力学模型;研究ω相析出对Ti-Ta合金基体成分的影响以及ω相与基体的共格关系和在基体中产生的应力场特征,揭示ω相析出对马氏体相变温度稳定性影响的微观机理;研究ω相析出对Ti-Ta合金力学行为和形状记忆效应的影响规律和机制,建立应变恢复特性与ω相形态、尺寸和体积分数之间的内在联系;探索提高马氏体相变温度稳定性的原理和方法,研制出兼具有优异加工性能、良好形状记忆效应和高相变温度稳定性的Ti-Ta高温形状记忆合金,为新型高实用性的高温记忆合金设计、开发与应用提供理论依据和指导原则。
英文摘要
按计划完成了全部研究内容。研究了Ti-Ta合金在时效和热循环过程中组织结构的演化规律,揭示ω相的析出机制,查明ω相析出对马氏体相变温度稳定性影响的微观机理,研究ω相析出对Ti-Ta合金力学行为和形状记忆效应的影响规律和机制,探索出Zr掺杂和热机械处理提高马氏体相变温度稳定性和形状记忆效应的原理和方法,研制了出兼具有优异加工性能、良好形状记忆效应和高相变温度稳定性的Ti-Ta-Zr高温形状记忆合金,为新型高实用性的高温记忆合金设计、开发与应用提供理论依据和指导原则。共发表SCI 论文12篇,培养博士生2名,硕士2名。
期刊论文列表
专著列表
科研奖励列表
会议论文列表
专利列表
DOI:10.1016/j.jallcom.2012.12.157
发表时间:2013-04
期刊:Journal of Alloys and Compounds
影响因子:6.2
作者:Xin Zhang;J. Sui;Xiaohang Zheng;Zheyi Yang;X. Tian;W. Cai
通讯作者:Xin Zhang;J. Sui;Xiaohang Zheng;Zheyi Yang;X. Tian;W. Cai
DOI:10.1016/j.jallcom.2011.06.013
发表时间:2011-09
期刊:Journal of Alloys and Compounds
影响因子:6.2
作者:J. Sui;Xin Zhang;L. Gao;W. Cai
通讯作者:J. Sui;Xin Zhang;L. Gao;W. Cai
DOI:10.1016/j.jallcom.2011.11.077
发表时间:2012-02
期刊:Journal of Alloys and Compounds
影响因子:6.2
作者:X. Tian;J. Sui;Xuexi Zhang;Xiaohang Zheng;W. Cai
通讯作者:X. Tian;J. Sui;Xuexi Zhang;Xiaohang Zheng;W. Cai
DOI:10.1016/j.scriptamat.2013.03.008
发表时间:2013-06
期刊:Scripta Materialia
影响因子:6
作者:Xiaohang Zheng;J. Sui;Xuexi Zhang;Zheyi Yang;H. B. Wang;X. Tian;W. Cai
通讯作者:Xiaohang Zheng;J. Sui;Xuexi Zhang;Zheyi Yang;H. B. Wang;X. Tian;W. Cai
DOI:10.1088/1674-1056/23/1/018101
发表时间:2013
期刊:Chinese Physics B
影响因子:1.7
作者:Zheng Xiao-hang;Sui Jiehe;Z. Xin;Yang Zhe-Yi;C. Wei
通讯作者:Zheng Xiao-hang;Sui Jiehe;Z. Xin;Yang Zhe-Yi;C. Wei
高性能室温立方无铅碲化锗基热电材料研究
  • 批准号:
    52271206
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    54万元
  • 批准年份:
    2022
  • 负责人:
    蔡伟
  • 依托单位:
方钴矿表面高结合强度且低接触电阻率接触层研究
  • 批准号:
    51871082
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    60.0万元
  • 批准年份:
    2018
  • 负责人:
    蔡伟
  • 依托单位:
记忆合金辐照诱发多类型缺陷与局域马氏体相变及功能行为关联性研究
  • 批准号:
    51731005
  • 项目类别:
    重点项目
  • 资助金额:
    300.0万元
  • 批准年份:
    2017
  • 负责人:
    蔡伟
  • 依托单位:
Ni-Mn-Ga铁磁记忆合金质子辐照效应及其机理研究
  • 批准号:
    51471060
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    85.0万元
  • 批准年份:
    2014
  • 负责人:
    蔡伟
  • 依托单位:
细晶Ni-Mn-Ga-Gd合金薄膜马氏体相变的尺寸效应与高温形状记忆特性
  • 批准号:
    51271065
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    80.0万元
  • 批准年份:
    2012
  • 负责人:
    蔡伟
  • 依托单位:
低门槛值镍锰镓/磁致伸缩粒子磁驱动形状记忆复合材料研究
  • 批准号:
    50971052
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    40.0万元
  • 批准年份:
    2009
  • 负责人:
    蔡伟
  • 依托单位:
应力、温度和磁场耦合作用下的马氏体相变理论研究及其在新材料设计中的应用
  • 批准号:
    50531020
  • 项目类别:
    重点项目
  • 资助金额:
    160.0万元
  • 批准年份:
    2005
  • 负责人:
    蔡伟
  • 依托单位:
新型高密度快擦写相变光存储TiNi合金薄膜研究
  • 批准号:
    50471018
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    27.0万元
  • 批准年份:
    2004
  • 负责人:
    蔡伟
  • 依托单位:
Ni-Mn-Ga磁驱动形状记忆合金薄膜研究
  • 批准号:
    50371022
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    29.0万元
  • 批准年份:
    2003
  • 负责人:
    蔡伟
  • 依托单位:
国内基金
海外基金