具有磁电耦合效应的多铁性材料是近年来物理、化学、材料研究领域的热点之一。从实际应用和器件小型化的角度来看，复合相多铁性薄膜值得关注，因其磁电耦合系数大于单相薄膜材料。然而，到目前为止，复合相多铁性薄膜（如1-3型）的微结构没有得到很好的控制。本项目拟采用脉冲激光沉积等薄膜制备方法与纳米压印等微加工技术相结合的技术路线，制备微结构可控的，以CoFe2O4/Pb(Zr,Ti)O3为代表的复合多铁性薄膜，其中，CoFe2O4将以纳米级的光栅线条状与Pb(Zr,Ti)O3构成2-2型复合多铁薄膜，或者以周期性柱状镶嵌在Pb(Zr,Ti)O3的基底中构成1-3型复合多铁薄膜。采用多种手段表征复合薄膜的微结构和电、磁性能及其耦合。这不仅可以更深入地研究复合多铁性薄膜中的电、磁耦合的物理机制，还可以寻找具有更大磁电耦合系数的多铁性材料，为多铁性薄膜在电子器件方面的实际应用做材料准备。