基于极化散射效应的AlGaN/GaN HFET质子辐照原位作用机理研究
批准号:
62374011
项目类别:
面上项目
资助金额:
48.00 万元
负责人:
杨铭
依托单位:
学科分类:
F0405.半导体器件物理
结题年份:
--
批准年份:
2023
项目状态:
未结题
项目参与者:
杨铭
国基评审专家1V1指导 中标率高出同行96.8%
结合最新热点,提供专业选题建议
深度指导申报书撰写,确保创新可行
指导项目中标800+,快速提高中标率
微信扫码咨询
AlGaN/GaN HFET极化散射效应与外界静电场耦合作用机理研究
- 批准号:61904007
- 项目类别:青年科学基金项目
- 资助金额:24.0万元
- 批准年份:2019
- 负责人:杨铭
- 依托单位:
国内基金
海外基金















{{item.name}}会员


