基于极化散射效应的AlGaN/GaN HFET质子辐照原位作用机理研究
批准号:
62374011
项目类别:
面上项目
资助金额:
48.00 万元
负责人:
杨铭
依托单位:
学科分类:
半导体器件物理
结题年份:
--
批准年份:
2023
项目状态:
未结题
项目参与者:
杨铭
AlGaN/GaN HFET极化散射效应与外界静电场耦合作用机理研究
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批准号:61904007
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:24.0万元
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批准年份:2019
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负责人:杨铭
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依托单位:
国内基金
海外基金