面向高性能硅MOS量子比特应用的高κ薄栅二维电子气迁移率影响机制及提升研究
批准号：
12374076
项目类别：
面上项目
资助金额：
52.00 万元
负责人：
袁国栋
依托单位：
学科分类：
量子材料与物性调控
结题年份：
--
批准年份：
2023
项目状态：
未结题
项目参与者：
袁国栋
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