Van der Waals 异质结中层间耦合作用的同步辐射研究
结题报告
批准号:
U2032150
项目类别:
联合基金项目
资助金额:
60.0 万元
负责人:
戚泽明
依托单位:
学科分类:
合肥同步辐射
结题年份:
2023
批准年份:
2020
项目状态:
已结题
项目参与者:
戚泽明
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中文摘要
Van der Waals 异质结是利用二维材料层间的Van der Waals 力构筑的新型原子层异质结,它可以充分结合各种二维材料独特的物性,并通过层间耦合产生新的物性,不仅为研究真实的二维物理现象提供了优秀平台,而且在光电子学等众多领域具有广泛的应用前景。在Van der Waals 异质结中,电荷、激子、声子与光子发生着强烈且复杂的相互作用,进行着产生、湮灭和传递,并显著地影响着光电性质。因此,异质结中光与物质的相互作用机制成为急需解决的关键问题。在本项目中,我们利用同步辐射红外-可见显微谱学技术和基于激光的超快光谱技术,结合研制的联用原位外场(电场、应变和温度)装置,在宽的波段、微米空间尺度和皮秒-纳秒时间尺度上对Van der Waals 异质结层间耦合机制,光子与激子和声子相互作用和调控,以及动力学行为进行研究,这对设计和构筑具有新颖光电性质的异质结和器件应用都具有重要意义。
英文摘要
Van der Waals heterostructure is a new type atomic thin heterostructure constructed by using the interlayer Van der Waals forces in layer two dimensional materials. This heterostructure can combine novel property from various two dimensional materials. Meanwhile, interlayer coupling can emerge new phenomenon and property. Van der Waals heterostructure not only becomes a platform for studying true two dimensional physics phenomenon, but also have wide applications in future photoelectric device and photoelectric detector. In Van der Waals heterostructure, charge, exciton, phonon and photon have a strong and complex interaction,which significantly influences the optical and electronic properties. Therefore, light-matter interaction mechanism has become a key problem and should be solved urgently. In this proposal, by using synchrotron Infrared-Vis microspectroscopy and laser-based ultrafast microspectroscopy, and combing developed external field (electric, strain and temperature) manipulating equipments, we explore the interlayer coupling, light-matter interaction and dynamical behavior in Van der Waals heterostructure at micrometer space scale and ps-ns time scale in wide spectrum range. This study will be very significance for designing and constructing new atomic thin heterostructure, which plays import role in developing photoelectric device.
期刊论文列表
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DOI:10.1063/5.0086327
发表时间:2022-04
期刊:Journal of Applied Physics
影响因子:3.2
作者:Yajun Tao;Shiyu Xie;Teng Lu;Chuan-Shan Hu;Hengjie Liu;Huanjun Zhang;Xuerui Cheng;Miao Liu;
通讯作者:Yajun Tao;Shiyu Xie;Teng Lu;Chuan-Shan Hu;Hengjie Liu;Huanjun Zhang;Xuerui Cheng;Miao Liu;
DOI:10.1007/s12274-021-3569-7
发表时间:2021-09-10
期刊:NANO RESEARCH
影响因子:9.9
作者:Duan, Hengli;Li, Guinan;Yan, Wensheng
通讯作者:Yan, Wensheng
DOI:--
发表时间:2021
期刊:The Journal of Physical Chemistry C
影响因子:--
作者:Liu Hengjie;Qi Zeming;Song Li
通讯作者:Song Li
DOI:10.1038/s41467-023-42844-9
发表时间:2023-11-03
期刊:NATURE COMMUNICATIONS
影响因子:16.6
作者:Feng, Sihua;Duan, Hengli;Tan, Hao;Hu, Fengchun;Liu, Chaocheng;Wang, Yao;Li, Zhi;Cai, Liang;Cao, Yuyang;Wang, Chao;Qi, Zeming;Song, Li;Liu, Xuguang;Sun, Zhihu;Yan, Wensheng
通讯作者:Yan, Wensheng
DOI:10.1063/5.0089315
发表时间:2022-03
期刊:Applied Physics Letters
影响因子:4
作者:Shiyu Xie;Xuerui Cheng;Chuan-Shan Hu;Zhenghao Zhang;Huanyu Zhang;Hengjie Liu;Z. Qi
通讯作者:Shiyu Xie;Xuerui Cheng;Chuan-Shan Hu;Zhenghao Zhang;Huanyu Zhang;Hengjie Liu;Z. Qi
基于加速器光源的谱学和成像技术研究范德瓦尔斯材料中的极化激元
  • 批准号:
    12375331
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    53万元
  • 批准年份:
    2023
  • 负责人:
    戚泽明
  • 依托单位:
高压同步辐射红外谱学技术研究二维材料电子结构演化和相变
  • 批准号:
    U1732148
  • 项目类别:
    联合基金项目
  • 资助金额:
    56.0万元
  • 批准年份:
    2017
  • 负责人:
    戚泽明
  • 依托单位:
原位研究高分子材料结构与力学性能的同步辐射红外和X射线衍射显微技术
  • 批准号:
    U1232128
  • 项目类别:
    联合基金项目
  • 资助金额:
    60.0万元
  • 批准年份:
    2012
  • 负责人:
    戚泽明
  • 依托单位:
同步辐射红外谱学和显微成像研究场效应下半导体-绝缘介质界面电荷动力学
  • 批准号:
    11275203
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    87.0万元
  • 批准年份:
    2012
  • 负责人:
    戚泽明
  • 依托单位:
La基稀土高介电系数(k)栅介质材料的同步辐射研究
  • 批准号:
    10974191
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    40.0万元
  • 批准年份:
    2009
  • 负责人:
    戚泽明
  • 依托单位:
高效稀土长余辉发光材料的微结构、发光性质与机理研究
  • 批准号:
    10404028
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
  • 资助金额:
    25.0万元
  • 批准年份:
    2004
  • 负责人:
    戚泽明
  • 依托单位:
国内基金
海外基金