基于VESOI 技术的H 型栅器件研制及其抗总剂量辐射效应机理研究
批准号:
21ZR1474500
项目类别:
省市级项目
资助金额:
万元
负责人:
母志强
依托单位:
学科分类:
金属材料
结题年份:
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批准年份:
2021
项目状态:
未结题
项目参与者:
母志强
基于SOI衬底的无结纳米片GAA器件研制及其抗总剂量辐射效应机理研究
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批准号:--
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项目类别:面上项目
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资助金额:59万元
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批准年份:2022
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负责人:母志强
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依托单位:
国内基金
海外基金