Maskenloser Aligner

[1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1]激光刻印机和激光刻印机。激光刻印机和激光刻印机。激光刻印机。2 . Die zur Belichtung eines subsubts mit einem Maskenpositionierer mit vorheriger Maskenausrichtung erforderlich sind；过敏原entfällt die not endigkeit der zeit- und kostenintensiven Herstellung von Fotomasken。模具ermöglicht快速成型技术，现代模具成型技术，现代模具成型技术，新型模具成型技术，<s:1> jedes substrate。每一种情况下，每一种情况下，每一种情况下，每一种情况下，每一种情况下，每一种情况下，每一种情况下，每一种情况下，每一种情况下，每一种情况下，每一种情况下，都会发生。die ist f8_f_ (r die Entwicklung von beidseitig auf einem基板aufgebrachten microstrukturen oderf_ （r die Entwicklung von Sensor / ASIC Hybridsystemen abdingbar）。

Das beantragte Gerät soll die Infrastruktur des Kirchhoff-Instituts für Physik (KIP) zur Herstellung von Mikrostrukturen im Allgemeinen, speziell aber von Silizium-Photomultipliern, Silizium-basierten Halbleitersensoren, Tieftemperaturteilchendetektoren sowie supraleitenden Quanteninterferenzdetektoren, erweitern. Es besitzt die Eigenschaften eines direktschreibenden Laserlithographen und erlaubt daher die direkte Belichtung der zu strukturierenden Substrate ohne vorherige Herstellung einer Belichtungsmaske. Die Schreibzeiten sind vergleichbar mit den Zeiten, die zur Belichtung eines Substrats mit einem Maskenpositionierer mit vorheriger Maskenausrichtung erforderlich sind; allerdings entfällt die Notwendigkeit der zeit- und kostenintensiven Herstellung von Fotomasken. Dies ermöglicht nicht nur ein Rapid-Prototyping, sondern auch die Verwendung individueller Strukturen, wie zum Beispiel eindeutige Kennzeichnungen, für jedes Substrat. Auch wird es am KIP erstmals die Möglichkeit zur Positionierung von Strukturen auf einem mehr als 2 Zoll großen Substrat bieten und es wird eine Ausrichtung von Strukturen relativ zur Substratrückseite des Substrats (Rückseiten-Alignement) erlauben. Dies ist für die Entwicklung von beidseitig auf einem Substrat aufgebrachten Mikrostrukturen oder für die Entwicklung von Sensor / ASIC Hybridsystemen unabdingbar.