Ultra-clean magnetron sputter system

Für gePlatte Forschungsarbeiten im Bereich der Quantoptik，Nanophotonik and Supraleitenden Materiterist ein leistungsfäghes MagnetronsputterSystem erforderlich.DAS系统是一种超高质量的材料和材料，是一种新型的材料和材料。一个WWU的动量输入系统VerfüGBar，das solchen Anforderungen Gerecht wird。我是Neuberufung von教授C.Schuck soll deshalb ein in Sputtersystem angeschafft den，well chchchwtige supraltige von wenigen schichtdicke für die Fertigung von Einzel Photoonendetekto ren erzeugt.这是一项新的技术研究，由教授C.Schuck ma？geblich mitentwickelt和Bestandteil seiner Forschungsaktivitäten组成。Ein Ensprechendes Sputtersystem für supraleitende材质学家Daher erforderlich，um die Arbeitsfähigkeit der Gruppe zu Gewährleisten.MIT DEM Neuen Gerät Sollen Supraleitende Schichten von 3-10 nm Dicke Hersterellt，Dicke Hersterellt DEM Neuen Gerät Sollen Supraleitende Schichten von 3-10 nm Dicke Hersterellt，die MIT Life fefe刻字机Techniken im Nanobereich strukturiert。我是Bereich der MaterialPhysik soll das system für elektronenmikroskopische Strukturuntersusuhungen an supraleitenden Dünnnfemes verwendet。在我们的国家里，我们需要更多的时间来满足他们的兴趣。

Für geplante Forschungsarbeiten im Bereich der Quantenoptik, Nanophotonik und supraleitenden Materialien ist ein leistungsfähiges Magnetronsputtersystem erforderlich. Das System muss eine Ultrahochvakuum Umgebung zur Verfügung stellen in der dünne, hochreine Filme aus Niob-basierten Supraleitern mit kontrollierbaren Materialeigenschaften hergestellt werden können. An der WWU ist momentan kein Sputtersystem verfügbar, das solchen Anforderungen gerecht wird. Im Rahmen der Neuberufung von Prof. C. Schuck soll deshalb ein Sputtersystem angeschafft werden, welches hochwertige Supraleiter von wenigen Nanometern Schichtdicke für die Fertigung von Einzelphotonendetektoren erzeugt. Diese neuartige Detektortechnologie wurde von Prof. C. Schuck maßgeblich mitentwickelt und ist elementarer Bestandteil seiner Forschungsaktivitäten. Ein entsprechendes Sputtersystem für supraleitende Materialien ist daher erforderlich, um die Arbeitsfähigkeit der Gruppe zu gewährleisten. Mit dem neuen Gerät sollen supraleitende Schichten von 3-10 nm Dicke hergestellt werden, die dann mit Hilfe lithographischer Techniken im Nanobereich strukturiert werden. Im Bereich der Materialphysik soll das System für elektronenmikroskopische Strukturuntersuchungen an supraleitenden Dünnfilmen verwendet werden. Durch die Einbettung in den Forschungsschwerpunkt Nanophysik soll das Gerät einem interessierten Nutzerkreis zugänglich gemacht werden und die Nanostrukturierungsmöglichkeiten an der WWU entscheidend stärken.