Fabrication of emissive metal complex arrays using DNA programmed mapping on a surface
Fabrication of emissive metal complex arrays using DNA programmed mapping on a surface
使用表面上的 DNA 编程映射制造发射金属复合物阵列
批准号：
19750121
负责人：
KOBAYASHI Katsuaki
金额：
$2.47万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2007
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2007 至 2009
中文摘要
翻译
建立了DNA纳米线在理想位置上的制造。新合成了DNA捕获分子，并在表面上进行了图案化，使DNA纳米线固定在特定位置。此外，我们还发现了“激光拉入效应”，即在金薄膜表面对激光焦点的快速收敛吸力。这种效应导致了控制碱基序列取向的DNA纳米线的制备。
英文摘要
DNA nanowire fabrication on a desired position was established. DNA capture molecule was newly synthesized and patterned on a surface which afforded the immobilization of DNA nanowire at a particular position. Moreover, we discovered "Laser pull-in effect" which is the rapid convergent suction toward a laser focal point on a Au film surface. This effect led to the fabrication of DNA nanowire with the control of base sequence orientation.
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DNA捕捉分子を用いた金表面でのDNA配線
使用 DNA 捕获分子在金表面进行 DNA 布线
使用 DNA 捕获分子在金表面进行 DNA 布线
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
[H. Takashima, E. Fujimito, C. Hirai, K. Tsukahara, 小関秀幸・引田二郎・小林克彰・筒井謙・和田恭雄・芳賀正明]
通讯作者：
小関秀幸・引田二郎・小林克彰・筒井謙・和田恭雄・芳賀正明
Au/SiO2パターン基板への選択的分子修飾と機能化
Au/SiO2 图案化基底的选择性分子修饰和功能化
Au/SiO2 图案化基底的选择性分子修饰和功能化
DOI：
--
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Musa S. Shongwe, Badria A. Al. Rashdi, Harry Adams, Michael J. Morris, Masahiro Mikuriya, Glovanni R. Hearne, 小林 克彰・戸川 伸明・舎川 直哉・筒井 謙・和田 恭雄・芳賀 正明]
通讯作者：
小林 克彰・戸川 伸明・舎川 直哉・筒井 謙・和田 恭雄・芳賀 正明
Fabrication of DNA Templated Molecular Nanowire and its Functions
DNA模板分子纳米线的制备及其功能
DNA模板分子纳米线的制备及其功能
DOI：
--
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
作者：
[K.Kobayashi, S.Fujii, N.Tonegawa, N.Togawa, M.Haga]
通讯作者：
M.Haga
DNA捕捉錯体を用いて伸長固定したDNAナノワイヤ-デバイスの構築
使用 DNA 捕获复合物构建细长且固定的 DNA 纳米线装置
使用 DNA 捕获复合物构建细长且固定的 DNA 纳米线装置
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
[引田二郎, 小関秀幸, 小林克彰, 筒井謙, 和田恭雄, 芳賀正明]
通讯作者：
芳賀正明
DNA wire device fabricated on Au patterned Si/SiO2 surface by the usage of DNA intercalator molecules and orthogonal self-assembly
利用 DNA 嵌入分子和正交自组装在 Au 图案化 Si/SiO2 表面上制造 DNA 线装置
利用 DNA 嵌入分子和正交自组装在 Au 图案化 Si/SiO2 表面上制造 DNA 线装置
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
[K. Kobayashi, J. Hikida, S. Fujii, H. Koseki, K. Tsutsui, Y. Wada, M. Haga]
通讯作者：
M. Haga
共 14 条
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