Präparation und optische Eigenschaften von Halbleiter- und Metallclustern in Plasmapolymer-Matrizen

Ein am Fraunhofer-Institut für Angewandte Materialforschung entwickeltes and Diesem Projekt Benutztes Zwei-Kammer-Verfahren ermöglicht eine Saubere Trennung der Metall-and HalbleiterClusterbildung and des PlatmapplationsProzess.在Der Kammer zur Metallvermepfung wird der Gasschicht oberhalb der Metalloberfläche vollständig abgeschlossen中成长的集群中，Bevor die集群MIT DEM Gasstrom in die plmazoneüberführt werden，wo Dann die Einbettung der jetzt abgekühlten集群in die Matrix stattfint。不来梅麻省理工学院和不来梅麻省理工学院的不来梅大学方法论，以及紫外可见和红外光谱分析。在魏特福荣格和Vertiefung der im sprünglichen Antrag(Förderung im Normal verfahren)and der Matrixzusammensetzung unteruxzusammensetzung in nerhalb der Teilchendichten innerhalb der Schichten(Füllgrad)and der Matrixzusammensetzung untersuh den中，每个人都将其归类为Weiggten Weitgehenden Optimierung和Vertiefung der im sprünglichen Antrag(Förderung im Normal verfahren)以及Matrixzusammensetzung untersuit den Matrixzusammensetzung untersuh den。在Ausweitung der Bisher ge装en arbeiten soll augegehend von ersten Orientierenen das Potential der MIT Clustein belenen Filme in bezug auf eine Anwendung in der Sensorik augelotet in der Sensorik augelotet.大足地质厂，金属团簇在金属氧化物团簇中进行氧化。在此基础上，提出了一种新的金属簇合物结构模型。

Ein am Fraunhofer-Institut für Angewandte Materialforschung entwickeltes und in diesem Projekt benutztes Zwei-Kammer-Verfahren ermöglicht eine saubere Trennung der Metall- und Halbleiterclusterbildung und des Plasmapolymerisationsprozesses. In der Kammer zur Metallverdampfung wird der Bildungsprozeß der Cluster in der Gasschicht oberhalb der Metalloberfläche vollständig abgeschlossen, bevor die Cluster mit dem Gasstrom in die Plasmazone überführt werden, wo dann die Einbettung der jetzt abgekühlten Cluster in die Matrix stattfindet. Die Teilchengrößen, ihre Verteilung innerhalb der Matrix sowie die Struktur der Matrix werden im Institut für Angewandte und Physikalische Chemie der Universität Bremen mit Methoden der Elektronenoptik, der UV/Vis- und der IR-Spektroskopie analysiert. Nach einer bereits erfolgten weitgehenden Optimierung der Probenpräparation sollen in Weiterführung und Vertiefung der im ursprünglichen Antrag (Förderung im Normalverfahren) vorgesehenen Arbeiten der Einfluß der Teilchendichten innerhalb der Schichten (Füllgrad) und der Matrixzusammensetzung untersucht werden. In Ausweitung der bisher geplanten Arbeiten soll ausgehend von ersten orientierenden Ergebnissen das Potential der mit Clustern beladenen Filme in bezug auf eine Anwendung in der Sensorik ausgelotet werden. Dazu ist geplant, die Metallcluster durch Oxidation in die korrespondierenden Metalloxidcluster zu überführen. Ein zweiter Schwerpunkt soll im Studium der optischen und elektrischen Wechselwirkungen der durch eine isolierende Matrix räumlich voneinander getrennten Metallcluster liegen.