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Research on vertical-type deep UV LEDs using new-concept substrate lift-off techniques

Research on vertical-type deep UV LEDs using new-concept substrate lift-off techniques
采用新概念基板剥离技术的垂直型深紫外LED研究
批准号:
21360013
负责人:
TAKEUCHI Misaichi
金额:
$11.98万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2009
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2009 至 2011

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
该项目的重点是通过去除基板来开发垂直结构的深紫外光LED。在传统的蓝光LED衬底去除技术中,激光剥离是用来去除衬底和GaN外延层之间界面处的衬底。对于深紫外光LED,激光剥离设备应该进行修改,以适应AlN层以下界面的移除。通过改善AlN层的结晶质量以及发展用于激光剥离的异质结构,已经实现了超过几mW的发射。此外,还使用了硅衬底作为试验衬底。改善了晶体质量和裂纹形成,证明了湿法刻蚀去除硅衬底的可行性。
英文摘要
This project focused on development of vertically-constructed deep UV LEDs by removing substrates. In the conventional substrate-removing techniques for blue LEDs, laser-lift off is used to remove substrates at the interfaces between substrate and GaN epi-layers. For deep UV LEDs, laser-lift off equipment should be modified to fit to remove at the interface below AlN layers. By improvement of crystalline quality of AlN layers as well as development of hetero-structures for laser-lift off, over several mW emission has been achieved. In addition, Si substrates were used as substrates on trial. Crystalline quality and crack formation were improved, and removing Si substrates by wet etching was demonstrated.
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会议论文
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