M.Tabe: "Initial stages of nitridation of Si (111) surfaces : X-ray photoelectron spectroscopy and scanning tunneling microscopy studies" Surface Science. (to be published). (1997)
M.Tabe: "Initial stages of nitridation of Si (111) surfaces : X-ray photoelectron spectroscopy and scanning tunneling microscopy studies" Surface Science. (to be published). (1997)
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M.Tabe：“Si (111) 表面氮化的初始阶段：X 射线光电子能谱和扫描隧道显微镜研究”表面科学。
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中科院分区：
文献类型：
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影响因子：
1.9
作者：
KRAUS, P;RODRIGUES, WN;MONCH, W
通讯作者：
MONCH, W
Si(111) 表面氮化的初始阶段：X 射线光电子能谱和扫描隧道显微镜研究
影响因子：
1.9
作者：
M. Tabe;Takeshi Yamamoto
通讯作者：
Takeshi Yamamoto
DOI：
10.1016/0022-3697(65)90163-0
发表时间：
1964
期刊：
影响因子：
--
作者：
R. J. Archer;G. Gobeli
通讯作者：
G. Gobeli
GaAs、GaSb 和 InP (110) 表面的化学吸附和氧化研究
DOI：
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发表时间：
1978
期刊：
影响因子：
--
作者：
P. Pianetta;I. Lindau;C. M. Garner;W. Spicer
通讯作者：
W. Spicer