TiN/HfxZr1－xO2/Si-MFS作製におけるSiO2界面層成長の抑制
TiN/HfxZr1－xO2/Si-MFS作製におけるSiO2界面層成長の抑制
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TiN/HfxZr1-xO2/Si-MFS 制造中 SiO2 界面层生长的抑制
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
森田 行則
中科院分区：
文献类型：
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作者：
女屋 崇;生田目 俊秀;井上 万里;澤田 朋実;太田 裕之;森田 行則
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通讯作者：
J. V. Houdt