Preparation, microstructure characterisation and corrosion behaviour of directionally grown TaSi2 fibre arrays with sharp tip fabricated by selective wet etching
Preparation, microstructure characterisation and corrosion behaviour of directionally grown TaSi2 fibre arrays with sharp tip fabricated by selective wet etching
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选择性湿法刻蚀尖尖定向生长 TaSi2 光纤阵列的制备、微观结构表征及腐蚀行为
DOI：
10.1016/j.corsci.2013.05.033
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发表时间：
2013-10
影响因子：
8.3
通讯作者：
Fu, Hengzhi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yang, Xinyu;Zhang, Jun;Su, Haijun;Jie, Ziqi;Liu, Lin;Fu, Hengzhi
利用定向凝固的Si-TaSi_2共晶复合材料，通过选择性刻蚀制备了取向良好的TaSi_2场发射针尖阵列。研究了刻蚀参数对TaSi_2针尖结构的影响，以及在HNO_3/HF溶液中的腐蚀行为。在优化条件下（HNO 3/HF = 5，50 min），获得了曲率半径为18 nm且分布均匀的TaSi 2尖，大大提高了场发射电流的品质因数。TaSi_2纤维在HNO_3/HF溶液中的溶解速率比Si基体小。对硅基体表面蚀坑的形成机理进行了讨论。
Directionally solidified Si–TaSi2eutectic composite is selectively etched to fabricate well aligned TaSi2tip array for field emission application. The effect of etching parameters on TaSi2tip structure, and its corrosion behaviour in HNO3/HF solution are investigated. At the optimised condition (HNO3/HF = 5 for 50 min), sharp TaSi2tips with curvature radius of 18 nm and homogenous distribution are obtained, which greatly improves the figure of merit associated with field emission current. The TaSi2fibre presents smaller dissolution rate in the HNO3/HF solution than Si matrix. The formation mechanism of etching pit on the Si matrix surface is also discussed.
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DOI：
10.1007/bf00814042
发表时间：
1972-02
期刊：
Soviet Powder Metallurgy and Metal Ceramics
影响因子：
--
作者：
V. P. Kopylova;T. Nazarchuk
通讯作者：
V. P. Kopylova;T. Nazarchuk
影响因子：
8.3
作者：
T. Sugano
通讯作者：
T. Sugano
影响因子：
1.8
作者：
B. Ditchek;J. Hefter;T. Middleton;J. Pelleg
通讯作者：
B. Ditchek;J. Hefter;T. Middleton;J. Pelleg
影响因子：
1.7
作者：
K. Yamamura;T. Mitani
通讯作者：
K. Yamamura;T. Mitani
影响因子：
8.3
作者：
S. Parlapanska;D. Parlapanski
通讯作者：
S. Parlapanska;D. Parlapanski