Hochleistungsplasmen zur Synthese diamantähnlicher Kohlenstoffschichten

Hochleistungsplasmen zur Synthese diamantähnlicher Kohlenstoffschichten
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用于合成类金刚石碳层的高性能等离子体

DOI:
10.1002/vipr.201500591
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发表时间:
2015
影响因子:
0.1
通讯作者:
M. Engels
M. Engels
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
K. Bobzin;T. Brögelmann;S. Bastürk;M. Engels

文献摘要

参考文献

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Beschichtungen aus diamantähnlichem Kohlenstoff(diamond‐like carbon,DLC)finden aufgrund ihrer vielfältig einstellbaren Eigenschaften,z. B。一个更高的Härte als Verschleißschutz in vielen Anwendungsgebieten Verwendung。高功率脉冲/脉冲磁控溅射(HPPMS/HiPIMS)的合成方法研究进展,以及在实际生产中的应用。B。脉冲激光沉积(PLD),glatte Schichten ohne weitere Nachbearbeitungsschritte ermöglicht.为了获得Schichten,可以使用血浆分析方法和一种确定Schichtsynthese韦尔登的方法进行原位血浆分析。Das Ziel dieser Arbeit es,an Prozessfenster mit einer möglichst hohen Anzahl energieicher Kohlenstofionen zu bestimmen,die eine Grundvoraussetzung zur Synthese harter DLC‐Schichten darstellen.由于Kohlenstofionisation的hinsichtlich viel-versprechenden参数过程和HPPMS-Pulsparametric变量,um Parameter für die Schichtsynthese abzuleiten。
Beschichtungen aus diamantähnlichem Kohlenstoff (diamond‐like carbon, DLC) finden aufgrund ihrer vielfältig einstellbaren Eigenschaften, z. B. einer hohen Härte als Verschleißschutz in vielen Anwendungsgebieten Verwendung. Hinsichtlich der Synthese dieser Schichten aktuell das High Power Pulsed/Impulse Magnetron Sputtering (HPPMS/HiPIMS) Gegenstand der Forschung, welches im Gegensatz zu etablierten Verfahren, z. B. der Pulsed Laser Deposition (PLD), glatte Schichten ohne weitere Nachbearbeitungsschritte ermöglicht. Vor Abscheidung der Schichten kann das Beschichtungsplasma in‐situ mittels plasma‐analytischer Methoden untersucht und ein Prozessfenster zur Schichtsynthese definiert werden. Das Ziel dieser Arbeit war es, ein Prozessfenster mit einer möglichst hohen Anzahl energiereicher Kohlenstoffionen zu bestimmen, die eine Grundvoraussetzung zur Synthese harter DLC‐Schichten darstellen. Es wurden die hinsichtlich der Kohlenstoffionisation viel‐versprechenden Parameter Prozessgaszusammensetzung und ‐druck sowie die HPPMS‐Pulsparameter variiert, um Parameter für die Schichtsynthese abzuleiten.
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