Cera alba-assisted ultraclean graphene transfer for high-performance PbI2 UV photodetectors
Cera alba-assisted ultraclean graphene transfer for high-performance PbI2 UV photodetectors
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用于高性能 PbI2 紫外光电探测器的 Cera alba 辅助超净石墨烯转移
DOI：
10.1088/1361-6528/ab9789
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发表时间：
2020-05
期刊：
影响因子：
3.5
通讯作者：
Mingsheng Xu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Han Xiao;Tao Liang;Xuewei Zhang;Pei Zhao;Xiaodong Pi;Quan Xie;Mingsheng Xu
石墨烯转移过程中引入的大量聚合物残留物仍然是限制化学气相沉积（CVD）生长的石墨烯集成到下一代电子和光电子器件中的主要障碍。在这里，我们使用来自蜂窝的天然环保材料白蜡作为超净石墨烯转移的支撑层。转移的石墨烯表面粗糙度低，表面高度波动在5 nm以内，平均片电阻仅为聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）转移的石墨烯的80.08%。此外，超净石墨烯用作基于pbi2的紫外光电探测器的电极，使响应率提高了135%。本文报道的白钙辅助转移方法可以实现清洁和无损伤的石墨烯转移，促进了cvd生长的二维（2D）材料在大面积薄膜电子和光电子器件中的应用。
Large polymer residues introduced by the graphene transfer process is still a major obstacle limiting the integration of chemical vapor deposition (CVD)-grown graphene into next-generation electronic and photoelectronic devices. Here we use cera alba, a natural and environmental-friendly material that derives from honeycomb, as the supporting layer for ultraclean graphene transfer. The transferred graphene has a low surface roughness with a surface height fluctuation within 5 nm and an only 80.08% average sheet resistance of the polymethyl methacrylate (PMMA)-transferred graphene. Further, the ultraclean graphene is used as electrodes for the PbI2-based UV photodetector and enables a 135% improvement on responsivity. The cera alba assisted transfer method reported here could achieve clean and damage-free graphene transfer, promoting the application of CVD-grown two-dimensional (2D) materials in large-area thin-film electronic and optoelectronic devices.
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基于多层 2D NiPS3 纳米片的高性能紫外光电探测器
影响因子：
19
作者：
Chu, Junwei;Wang, Fengmei;He, Jun
通讯作者：
He, Jun
影响因子：
10.9
作者：
Deokar, G.;Avila, J.;Vignaud, D.
通讯作者：
Vignaud, D.
DOI：
10.4028/www.scientific.net/msf.645-648.633
发表时间：
2009-10
期刊：
Materials Science Forum
影响因子：
--
作者：
Joshua D. Caldwell;T. Anderson;K. Hobart;J. Culbertson;G. Jernigan;F. Kub;J. Tedesco;J. Hite
通讯作者：
Joshua D. Caldwell;T. Anderson;K. Hobart;J. Culbertson;G. Jernigan;F. Kub;J. Tedesco;J. Hite
影响因子：
9.5
作者：
Jingyi Qu;Bao‐Wen Li;Yongtao Shen;Shuchun Huo;Ying Xu;Shiyuan Liu;Baokun Song;Hao Wang;Chunguang Hu;W. Feng
通讯作者：
Jingyi Qu;Bao‐Wen Li;Yongtao Shen;Shuchun Huo;Ying Xu;Shiyuan Liu;Baokun Song;Hao Wang;Chunguang Hu;W. Feng
影响因子：
10.9
作者：
Shin, Somyeong;Kim, Seonyeong;Seo, Sunae
通讯作者：
Seo, Sunae