Single-crystal thin film growth of the Mott insulator EuVO3 under biaxial substrate strain
Single-crystal thin film growth of the Mott insulator EuVO3 under biaxial substrate strain
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双轴衬底应变下莫特绝缘体 EuVO3 的单晶薄膜生长
DOI:
10.1016/j.jcrysgro.2022.126752
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发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
and H. Kageyama
中科院分区:
文献类型:
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作者:
H. Takatsu;M. Namba;T. Terashima;and H. Kageyama
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影响因子:
5.4
作者:
T. Sakai;G. Adachi;J. Shiokawa;T. Shin
通讯作者:
T. Shin
影响因子:
8.6
作者:
Lin, Xiao;Bridoux, German;Behnia, Kamran
通讯作者:
Behnia, Kamran
影响因子:
3.8
作者:
H. Takatsu;M. Ochi;Morito Namba;Haobo Li;Aurelie Daniel;T. Terashima;K. Kuroki;H. Kageyama
通讯作者:
H. Takatsu;M. Ochi;Morito Namba;Haobo Li;Aurelie Daniel;T. Terashima;K. Kuroki;H. Kageyama
影响因子:
8.6
作者:
K. Yoshimatsu;T. Okabe;H. Kumigashira;H. Kumigashira;S. Okamoto;S. Aizaki;A. Fujimori;M. Oshima
通讯作者:
K. Yoshimatsu;T. Okabe;H. Kumigashira;H. Kumigashira;S. Okamoto;S. Aizaki;A. Fujimori;M. Oshima
影响因子:
3.7
作者:
M. Sage;G. Blake;C. Marquina;T. Palstra
通讯作者:
T. Palstra