Structure and electric properties of TiO_2 films prepared by cold plasma torch under atomospheric pressure
Structure and electric properties of TiO_2 films prepared by cold plasma torch under atomospheric pressure
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大气压冷等离子体炬制备TiO_2薄膜的结构与电性能
DOI：
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发表时间：
1996
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
H. KOINUMA
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. HA;B. K. MOON;T. HORIUCHI;T. ONUSHIMA;T. INUSHIMA;H. KOINUMA
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PECVD氧化硅薄膜的成分与性能
DOI：
10.1149/1.2114272
发表时间：
1985
期刊：
影响因子：
--
作者：
P. Pan;L. Nesbit;R. Douse;R. Gleason
通讯作者：
R. Gleason
冷等离子体炬在空气暴露表面等离子体化学气相沉积SiO_2
DOI：
--
发表时间：
1995
期刊：
Jorn. of the Electrochemical Society 42(8)
影响因子：
--
作者：
H. K. HA;K. INOMATA;H. KOINUMA
通讯作者：
H. KOINUMA
钛及其化合物。
DOI：
10.1021/ja01647a094
发表时间：
1954
期刊：
影响因子：
--
作者：
W. Schumb
通讯作者：
W. Schumb
热退火 TiO2 薄膜的拉曼光谱
DOI：
10.1016/0040-6090(91)90338-x
发表时间：
1991
期刊：
影响因子：
--
作者：
A. Turkovic;M. Ivanda;A. Drašner;V. Vranes̆a;M. Persin
通讯作者：
M. Persin