Vickers Hardness and Deformation of Ni/Cu Nano-Multilayers Electrodeposited on Copper Substrate
Vickers Hardness and Deformation of Ni/Cu Nano-Multilayers Electrodeposited on Copper Substrate
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铜基体上电沉积镍/铜纳米多层膜的维氏硬度和形变
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S.Hashimoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Kaneko;Y.Mizuta;Y.Nishijima;S.Hashimoto
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电沉积镍/铜和钴/铜多层膜中的巨磁阻
影响因子：
3.9
作者：
K. D. Bird;M. Schlesinger
通讯作者：
M. Schlesinger
受控结构和成分的层状沉积物的电化学形成II。
DOI：
10.1149/1.2096987
发表时间：
1987
期刊：
影响因子：
--
作者：
A. Despić;V. Jović
通讯作者：
V. Jović
DOI：
10.1149/1.2095930
发表时间：
1988
期刊：
影响因子：
--
作者：
D. Lashmore;M. Dariel
通讯作者：
M. Dariel
电沉积 Ni-Cu/Cu 多层膜中微观结构与巨磁阻的相关性
DOI：
10.3139/ijmr-1997-0147
发表时间：
1997
期刊：
影响因子：
--
作者：
Á. Cziráki;I. Gerőcs;B. Fogarassy;Birgit Arnold;M. Reibold;K. Wetzig;E. Toth;I. Bakonyi
通讯作者：
I. Bakonyi
影响因子：
2.8
作者：
S. Kashiwabara;Y. Jyoko;Y. Hayashi
通讯作者：
Y. Hayashi