BaSi2 domain boundary の最安定構造及び界面特性についての考察
BaSi2 domain boundary の最安定構造及び界面特性についての考察
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BaSi2域边界最稳定结构和界面性质的考虑
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
末益 崇
中科院分区：
文献类型：
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作者：
馬場 正和;香山 正徳;都甲 薫;末益 崇
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通讯作者：
T. Suemasu