Self-formation of Ti-rich Interfacial Layers in Cu(Ti) Alloy Film
Self-formation of Ti-rich Interfacial Layers in Cu(Ti) Alloy Film
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Cu(Ti)合金膜中富钛界面层的自形成
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Murakami
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Ito;S.Tsukimoto;M.Murakami
SiO2 上 Cu-Mg 合金薄膜界面相的形成
影响因子：
3.2
作者：
M. J. Frederick;G. Ramanath
通讯作者：
G. Ramanath
在氨环境中通过难熔金属氮化钝化 Cu
影响因子：
2.1
作者：
D. Adams;T. Alford;N. Theodore;S. W. Russell;R. L. Spreitzera;J. Mayer
通讯作者：
J. Mayer