Measurement of viscoelasticity of UV photoresist used for nanoimprint lithography under confinement in nanometer-sized gaps
Measurement of viscoelasticity of UV photoresist used for nanoimprint lithography under confinement in nanometer-sized gaps
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用于纳米压印光刻的紫外光刻胶在纳米尺寸间隙限制下的粘弹性测量
DOI：
10.7567/jjap.56.06gl02
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发表时间：
2017
影响因子：
1.5
通讯作者：
and H. Zhan
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
S. Itoh;K. Takahashi;H. Morita;K. Fukuzawa;and H. Zhan
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通讯作者：
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通讯作者：
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