Ta underlayer effect on ordering of CoPt on Si substrates
Ta underlayer effect on ordering of CoPt on Si substrates
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Ta底层对Si衬底上CoPt有序化的影响
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yutaka Majima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ryo Toyama;Shiro Kawachi;Jun-ichi Yamaura;Youichi Murakami;Hideo Hosono;Yutaka Majima
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溅射沉积和退火 Co-Pt 合金的磁性能和微观结构分析
DOI：
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发表时间：
1995
期刊：
影响因子：
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作者：
Sung‐Eon Park;P. Jung;Ki
通讯作者：
Ki
优化分子束外延生长的 CoPt/MgO(001) 薄膜的化学顺序和磁性能的生长条件
影响因子：
3.2
作者：
O. Ersen;V. Parasote;V. Pierron;M. Cadeville;C. Ulhaq
通讯作者：
C. Ulhaq
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8.6
作者：
ROONEY, PW;SHAPIRO, AL;HELLMAN, F
通讯作者：
HELLMAN, F
单晶衬底上外延生长的 CoPt 和 Co3Pt 合金薄膜中亚稳态有序相的形成
DOI：
10.1587/transele.e96.c.1460
发表时间：
2013
期刊：
IEICE Trans. Electron.
影响因子：
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作者：
M. Ohtake;Daisuke Suzuki;F. Kirino;M. Futamoto
通讯作者：
M. Futamoto
厚度对Co-Pt薄膜磁滞的影响
影响因子：
2.7
作者：
A. Tsoukatos;H. Wan;G. Hadjipanayis;Yong Zhang;M. Waite;S. Shah
通讯作者：
S. Shah