In-plane refractive index anisotropy in porous silicon layers induced by polarized illumination during electrochemical etching
In-plane refractive index anisotropy in porous silicon layers induced by polarized illumination during electrochemical etching
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电化学蚀刻过程中偏振照明引起的多孔硅层的面内折射率各向异性
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
H.Koyama
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
H.Yokomichi;et al;H.Koyama
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HF溶液中多孔硅的阳极氧化后过滤照明：提高发光性能的有效方法
DOI：
10.1063/1.112946
发表时间：
1994
期刊：
影响因子：
--
作者：
H. Koyama;T. Nakagawa;T. Ozaki;N. Koshida
通讯作者：
N. Koshida
在可见光区域从多孔硅垂直光学腔精确调谐发射
DOI：
10.1063/1.363526
发表时间：
1996
期刊：
影响因子：
--
作者：
M. Araki;H. Koyama;N. Koshida
通讯作者：
N. Koshida
多孔硅光致发光的各向异性
DOI：
10.1557/proc-452-541
发表时间：
1996
期刊：
MRS Proceedings
影响因子：
--
作者：
G. Polisski;B. Averboukh;D. Kovalev;F. Koch
通讯作者：
F. Koch
光学各向异性多孔硅中的散射环
影响因子：
4
作者：
C. Oton;Z. Gaburro;M. Ghulinyan;L. Pancheri;P. Bettotti;L. D. Negro;Lorenzo Pavesi
通讯作者：
Lorenzo Pavesi
多孔超晶格：一类新型硅异质结构
DOI：
10.1088/0022-3727/27/6/035
发表时间：
1994
期刊：
Journal of Physics D
影响因子：
--
作者：
M. Berger;C. Dieker;M. Thönissen;L. Vescan;H. Lüth;H. Münder;W. Theiß;M. Wernke;P. Grosse
通讯作者：
P. Grosse