Loss in discharging atoms through artificial hole for fabricating metallic micro/nanowire by electromigration
Loss in discharging atoms through artificial hole for fabricating metallic micro/nanowire by electromigration
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电迁移制造金属微纳米线人工孔放电原子损失
DOI：
10.1299/mej.18-00269
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发表时间：
2019
影响因子：
0.5
通讯作者：
Yasuhiro KIMURA
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
海瀨晃;田原正樹;細田秀樹;後藤研滋;堤祐介;塙隆夫;Y. Kimura and Y. Ju;Handa Naoto;Akira Umise,Kenji Goto,Masaki Tahara,Tso Fu Mark Chang,Masato Sone,Takao Hanawa,Hideki Hosoda;Yasuhiro KIMURA
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