In-plane X-ray diffraction profiles from organosilane monolayer/SiO2 models
In-plane X-ray diffraction profiles from organosilane monolayer/SiO2 models
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有机硅烷单层/SiO2 模型的面内 X 射线衍射图
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
I. Ohdomari
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Yamamoto;T. Watanabe;I. Ohdomari
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影响因子：
3.5
作者：
Miyake, Takeo;Tanii, Takashi;Ohdomari, Iwao
通讯作者：
Ohdomari, Iwao
DOI：
10.1063/1.2895052
发表时间：
2008-04
期刊：
The Journal of chemical physics
影响因子：
--
作者：
Hideaki Yamamoto;Takanobu Watanabe;I. Ohdomari
通讯作者：
Hideaki Yamamoto;Takanobu Watanabe;I. Ohdomari
通过温度依赖性掠入射 X 射线衍射研究烷基硅烷单层的相变
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
Langmuir vol.23
影响因子：
--
作者：
T. Koga;K. Honda;S. Sasaki;O. Sakata;and A. Takahara,
通讯作者：
and A. Takahara,
有机硅烷自组装单层抗蚀剂的电子束光刻
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Jpn.J.Appl.Phys. Vol.32, No.7A
影响因子：
--
作者：
T.Tanii;T.Hosaka;T.Miyake;I.Ohdomari
通讯作者：
I.Ohdomari