Electron Beam Lithography on Organosilane Self-Assembled Monolayer Resist
Electron Beam Lithography on Organosilane Self-Assembled Monolayer Resist
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有机硅烷自组装单层抗蚀剂的电子束光刻
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
I.Ohdomari
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Tanii;T.Hosaka;T.Miyake;I.Ohdomari
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使用超薄 SiO2 掩模在硅表面制造高密度纳米蚀刻坑阵列
影响因子：
1.5
作者：
Meishoku Koh;Souichi Sawara;T. Goto;Yoshinori Ando;T. Shinada;I. Ohdomari
通讯作者：
I. Ohdomari
影响因子：
4
作者：
C. Whelan;M. Lercel;H. Craighead;K. Seshadri;D. Allara
通讯作者：
D. Allara
利用自组装单层岛同时观察 SiO2 表面和 SiO2/Si 界面
影响因子：
1.5
作者：
T. Komeda;Kenji Namba;Y. Nishioka
通讯作者：
Y. Nishioka
十八烷基三氯硅烷自组装单层岛作为自图案掩模用于 Si 上 SiO2 的 HF 蚀刻
DOI：
10.1116/1.581142
发表时间：
1998
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
T. Komeda;Kenji Namba;Y. Nishioka
通讯作者：
Y. Nishioka