Elasticity and Resistivity Study on the Electromigration Effect Observed in Aluminum-Silicon Copper Alloy Thin Films
Elasticity and Resistivity Study on the Electromigration Effect Observed in Aluminum-Silicon Copper Alloy Thin Films
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铝硅铜合金薄膜电迁移效应的弹性和电阻率研究
DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
H.Tanimoto
中科院分区:
文献类型:
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作者:
H.Mizubayashi;D.Kashimura;K.Yokota;H.Tanimoto
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DOI:
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发表时间:
1999
期刊:
影响因子:
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作者:
A. Oliva;P. Quintana;O. Ceh;J. Corona;M. Aguilar
通讯作者:
M. Aguilar
DOI:
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发表时间:
1993
期刊:
影响因子:
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作者:
Y. Nishino;S. Asano
通讯作者:
S. Asano
DOI:
10.1002/pssa.2211290217
发表时间:
1992
期刊:
Physica Status Solidi (a)
影响因子:
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作者:
H. Mizubayashi;Y. Yoshihara;S. Okuda
通讯作者:
S. Okuda
DOI:
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发表时间:
2002
期刊:
影响因子:
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作者:
I. Choi;Young;Young‐Chang Joo
通讯作者:
Young‐Chang Joo
DOI:
10.1103/physrevb.45.13624
发表时间:
1992
期刊:
Physical review. B, Condensed matter
影响因子:
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作者:
Jones;Slotwinski;Mintmire
通讯作者:
Mintmire