Characterization of Pd‐Ni‐Co alloy thin films by ED‐EPMA with application of the STRATAGEM software
Characterization of Pd‐Ni‐Co alloy thin films by ED‐EPMA with application of the STRATAGEM software
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应用 STRATAGEM 软件通过 EDâEPMA 表征 PdâNiâCo 合金薄膜
DOI：
10.1002/sia.4974
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发表时间：
2012
影响因子：
1.7
通讯作者：
Wolfgang E. S. Unger
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Julius Kühn;Vasile-Dan Hodoroaba;Sebastian Linke;Werner Moritz;Wolfgang E. S. Unger
在硅晶片上的基于Pd、Ni和Co的三元薄膜合金已被表征以确定元素组成和厚度。通过磁控直流共溅射沉积在同一个基底上获得了各种各样的合金成分。这些“多”合金成分样品的能量色散电子探针X射线显微分析以非破坏性、精确的方式进行，如果优化，还可以节省时间。所研究的层的局部厚度在50 nm和250 nm之间。纯元素块体材料已被用作参考样品。将本研究中获得的结果与通过其他分析方法如俄歇电子能谱和X射线光电子能谱获得的结果进行比较。版权所有© 2012约翰威利父子有限公司.
Ternary thin film alloys based on Pd, Ni and Co on silicon wafers have been characterized in order to determine elemental composition and thickness. A broad variety of alloy compositions was obtained on one and the same substrate by magnetron dc‐co‐sputter deposition. Energy‐dispersive electron probe X‐ray microanalysis of these ‘multi’ alloy composition samples is performed in a non‐destructive, precise and, if optimized, also in a time‐saving way. The local thickness of the layers under study was in between 50 nm and 250 nm. Pure element bulk materials have been employed as reference specimens. The results attained in this study are compared to those obtained by other analytical methods as Auger electron spectroscopy and X‐ray photo electron spectroscopy. Copyright © 2012 John Wiley & Sons, Ltd.
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