Roughness Analysis of trench patterns formed by Using Block Copolymer Lithography
Roughness Analysis of trench patterns formed by Using Block Copolymer Lithography
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使用嵌段共聚物光刻形成的沟槽图案的粗糙度分析
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Yamaguchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Yamaguchi;H. Yamaguchi
层状共聚物的定向自组装：界面相互作用对域形状的影响。
影响因子：
7.015
作者：
G. M. Perera;Chengqing C. Wang;M. Doxastakis;R. J. Kline;Wen;A. Bosse;G. Stein
通讯作者：
G. Stein
通过定向自组装确定纳米结构的内部形态。
影响因子：
17.1
作者：
D. Sunday;Matthew R. Hammond;Chengqing C. Wang;Wen;D. Delongchamp;Melia Tjio;Joy Y. Cheng;J. Pitera;R. Joseph Kline
通讯作者：
R. Joseph Kline
密集纳米线光栅中空间相关线宽的小角度 X 射线散射测量 ☆
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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作者：
Chengqing C. Wang;W. Fu;Bin Li;Huai;C. Soles;E. Lin;Wen;P. Ho;M. Cresswell
通讯作者：
M. Cresswell