A Differential Burn-in Policy Considering Nonhomogeneous Distribution of Spatial Defects in Semiconductor Manufacturing
A Differential Burn-in Policy Considering Nonhomogeneous Distribution of Spatial Defects in Semiconductor Manufacturing
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考虑半导体制造中空间缺陷非均匀分布的差分老化策略
DOI：
10.1109/aparm49247.2020.9209427
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Kuo, Yue
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yuan, Tao;Chen, Yuan;Kuo, Yue
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Jung Yoon Hwang