Low temperature oxidation of CVD SiC by electron cyclotron resonance plasma
Low temperature oxidation of CVD SiC by electron cyclotron resonance plasma
复制标题
电子回旋共振等离子体低温氧化CVD SiC
DOI：
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Goto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Goto
UV-臭氧预清洗和合成气退火在p型碳化硅湿热氧化中的应用
影响因子：
4.1
作者：
C. Zetterling;M. Östling;C. Harris;P. Wood;S. Wong
通讯作者：
S. Wong
影响因子：
4
作者：
A. Kazor;I. Boyd
通讯作者：
I. Boyd