Metal Enhanced Fluorescence on Silicon Wafer Substrates.
Metal Enhanced Fluorescence on Silicon Wafer Substrates.
复制标题
DOI：
10.1016/j.cplett.2008.08.008
复制
发表时间：
2008-10
影响因子：
2.8
通讯作者：
Gryczynski, Z.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Gryczynski, I.;Matveeva, E. G.;Sarkar, P.;Bharill, S.;Borejdo, J.;Mandecki, W.;Akopova, I.;Gryczynski, Z.
报道了沉积在硅片上的银岛膜(SIF)的荧光增强效应。对镀银和未镀银的晶片进行了模式免疫分析。罗丹明红X在SIF上的荧光亮度提高了约300%，寿命降低了数倍，光稳定性显著提高。我们讨论了硅片衬底在多路分析中的潜在应用，其中由于SIF而增强了荧光，并且多路传输是通过使用微型应答器来实现的。
We report on the fluorescence enhancement induced by silver island film (SIF) deposited on a silicon wafer. The model immunoassay was studied on silvered and unsilvered wafers. The fluorescence brightness of Rhodamine Red X increased about 300% on the SIF, while the lifetime was reduced by several fold and the photostability increased substantially. We discuss potential uses of silicon wafer substrates in multiplex assays in which the fluorescence is enhanced due to the SIF, and the multiplexing is achieved by using micro transponders.
登录
查看更多内容
DOI：
10.1016/j.saa.2003.10.014
发表时间：
2004-07-01
影响因子：
4.4
作者：
Geddes, CD;Parfenov, A;Lakowicz, JR
通讯作者：
Lakowicz, JR
影响因子：
2.9
作者：
Malicka, J;Gryczynski, I;Lakowicz, JR
通讯作者：
Lakowicz, JR
DOI：
10.1016/s0939-6411(03)00115-2
发表时间：
2003-11-01
影响因子：
4.9
作者：
Lochner, N;Lobmaier, C;Gabor, F
通讯作者：
Gabor, F
DOI：
10.1007/bf00694696
发表时间：
1985-01-01
期刊：
APPLIED PHYSICS B-PHOTOPHYSICS AND LASER CHEMISTRY
影响因子：
--
作者：
LEITNER, A;LIPPITSCH, ME;AUSSENEGG, FR
通讯作者：
AUSSENEGG, FR
影响因子：
--
作者：
DAS, P;METIU, H
通讯作者：
METIU, H