Improved surface quality of anisotropically etched silicon {111} planes for mm-scale optics
Improved surface quality of anisotropically etched silicon {111} planes for mm-scale optics
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改善毫米级光学器件各向异性蚀刻硅 {111} 平面的表面质量
DOI：
10.1088/0960-1317/23/11/117006
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发表时间：
2013
影响因子：
2.3
通讯作者：
Cotter J
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Cotter J
本文研究了用氢氧化钾腐蚀CZ和FZ硅片，使其{111}面暴露出来所制得的毫米级光学反射镜的表面质量。我们发现，FZ表面在空间频率高达500 mm− 1时的噪声功率降低了四倍。我们得出结论，使用FZ晶片制成的反射镜具有更高的光学质量。
We have studied the surface quality of millimetre-scale optical mirrors produced by etching CZ and FZ silicon wafers in potassium hydroxide to expose the {111} planes. We find that the FZ surfaces have four times lower noise power at spatial frequencies up to 500 mm− 1. We conclude that mirrors made using FZ wafers have higher optical quality.
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DOI：
10.1088/0960-1317/22/12/125011
发表时间：
2012-08
影响因子：
2.3
作者：
A. Laliotis;M. Trupke;J. Cotter;G. Lewis;M. Kraft;E. Hinds
通讯作者：
A. Laliotis;M. Trupke;J. Cotter;G. Lewis;M. Kraft;E. Hinds
DOI：
10.1007/s00542-013-1859-z
发表时间：
2014-02-01
影响因子：
2.1
作者：
Rola, Krzysztof P.;Ptasinski, Konrad;Zubel, Irena
通讯作者：
Zubel, Irena
原子芯片：REICHEL：ATOM CHIPS O-BK
DOI：
--
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
作者：
J. Reichel;V. Vuletić
通讯作者：
V. Vuletić
影响因子：
3.8
作者：
Pollock, S.;Cotter, J. P.;Hinds, E. A.
通讯作者：
Hinds, E. A.
用于光输入-输出耦合器的微加工{111}取向硅镜的光反射率
影响因子：
2.3
作者：
D. Sadler;M. Garter;C. Ahn;Seungug Koh;A. Cook
通讯作者：
A. Cook